CVD premaz od silicijum karbida (SiC).

CVD SiC premaz je u osnovi sloj silicijum karbida nanesen na grafit i široko se koristi u alatima za epitaksiju gdje su i temperatura i čistoća važni. U stvarnim proizvodnim linijama, često ćete ga vidjeti u sistemima kompanija AIXTRON, ASM/LPE, Veeco, kao i na nekim platformama povezanim s AMAT-om. Ono što ga čini korisnim nije samo otpornost na temperaturu, već i ukupna stabilnost tokom dugih procesa. Pod tipičnim uslovima epitaksije - vodonikom, amonijakom ili čak hlorisanim gasovima - premaz ostaje relativno stabilan i štiti grafit ispod. To pomaže da toplotno polje bude konzistentnije i smanjuje mogućnost pojave čestica tokom rasta.

U većini slučajeva, premaz se nanosi na dijelove poput susceptora, nosača pločica, grafitnih prstenova ili komponenti u obliku polumjeseca. Svi oni su direktno uključeni u zagrijavanje ili pozicioniranje pločica, tako da svaka mala nestabilnost može utjecati na prinos. Iz tog razloga, premazani dijelovi se često tretiraju kao potrošni materijal koji i dalje mora biti pouzdan tokom više ciklusa, posebno u proizvodnji od 4 do 12 inča.