Poluprovodnička kvarcna pločica

Semixlab poluprovodnička kvarcna pločica je precizno polirana, ultra-visoko čista podloga od fuzioniranog silicija, dizajnirana za zahtjevna okruženja za obradu poluprovodnika.

Široko se primjenjuje kao lažna pločica, nosač pločice, optička podloga i baza za fotomasku u termičkoj oksidaciji, CVD/LPCVD, PECVD i litografskim sistemima.

Napravljena od 99.99% SiO₂ visoke čistoće, ova kvarcna pločica nudi izuzetnu termičku stabilnost, hemijsku inertnost i optičku transparentnost, osiguravajući stabilan rad bez kontaminacije u naprednim linijama za proizvodnju poluprovodnika.

Ⅰ. Svojstva materijala i površine

● Materijal: Sintetički ili prirodni taljeni silicijum dioksid (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Opcije prečnika: 2", 4", 6", 8", 12" (dostupne su i prilagođene veličine).

● Završna obrada površine: Polirano s obje strane, ravnost ≤ 5 μm, hrapavost površine ≤ 0.5 nm.

● Termička otpornost: Stabilna do 1200°C pri kontinuiranom radu.

● Koeficijent termičkog širenja: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Optička transmisija: >90% od 190 nm do 2,600 nm.

Svaka pločica prolazi kroz strogu površinsku inspekciju, dimenzionalnu provjeru i analizu čistoće kako bi se osigurala potpuna usklađenost sa zahtjevima poluprovodničkog kvaliteta.

Ⅱ. Ključne funkcije u poluprovodničkim procesima

1. Nosilac procesa u CVD i LPCVD sistemima

Kvarcne pločice se koriste kao lažne ili odstojne pločice za stabilizaciju protoka plina i ujednačenosti temperature tokom taloženja tankih filmova SiO₂, Si₃N₄ i polisilicija. Njihova dimenzionalna preciznost osigurava ujednačen rast filma i minimalno stvaranje čestica tokom ciklusa taloženja.

2. Primjena u oksidacijskim i difuzijskim pećima

U procesima oksidacije na visokim temperaturama i difuzije dopanta, kvarcne pločice djeluju kao termalni štitovi ili monitori procesa, održavajući ravnomjernu raspodjelu temperature i sprječavajući kontaminaciju proizvodnih pločica.

3. Upotreba u optici i litografiji

Zahvaljujući visokoj optičkoj propusnosti i ujednačenosti indeksa prelamanja, kvarcna pločica je idealna za izradu fotomaski, podloga za DUV ekspoziciju i alata za optičku kalibraciju. Garantuje konzistentan prenos svjetlosti za i-line, KrF i ArF litografske sisteme.

4. Plazma i okruženja za nagrizanje

U sistemima suhog nagrizanja i plazma CVD-a, kvarcne pločice se koriste kao štitovi komore ili plazma prozori, nudeći odličnu dielektričnu čvrstoću i hemijsku otpornost na gasove na bazi halogena (CF₄, SF₆, Cl₂).

5. Metrologija i kalibracija opreme

Kvarcne pločice služe kao referentne pločice za kalibraciju debljine filma, temperature i ravnosti. Njihova ultra glatka površina bez defekata omogućava tačne i ponovljive rezultate mjerenja, osiguravajući stabilnost kontrole procesa.

Tipične aplikacije

● Lažna pločica za CVD, LPCVD i PECVD sisteme

● Nosilac procesa ili termalni štit u oksidacijskim i difuzijskim pećima

● Podloga za fotomasku za UV/DUV litografiju

● Referentna pločica za kalibraciju opreme i metrologiju

● Prozor plazma komore i zaštita procesa nagrizanja

Semixlab poluprovodnička kvarcna pločica je visokoperformansni supstrat projektovan za najzahtjevnije poluprovodničke procese. Njegova termička stabilnost, optička preciznost i hemijska čistoća čine ga nezamjenjivim u primjenama taloženja, oksidacije, litografije i metrologije. Sa sveobuhvatnom podrškom za prilagođavanje i inženjering, Semixlab pruža rješenja koja maksimiziraju konzistentnost procesa, pouzdanost prinosa i operativnu efikasnost. Iskreno se nadamo da ćemo postati vaš dugoročni partner u Kini.